光刻机四大核心系统及国内供应商梳理
一、光刻机概览
光刻机是芯片光刻环节核心设备，将电路图案转化为硅片物理结构，直接决定芯片性能。
（1）工作原理：光束将掩模版图案按比例缩小，随后投影到涂有光刻胶的硅片上，再经显影、刻蚀等工艺形成芯片电路。
（2）核心系统：光源系统、光学系统（照明系统+投影物镜系统）、双工件台系统、环境控制系统、传输与测量系统等。
（3）光束路径：光源系统→照明系统→掩模版→投影物镜系统→晶圆表面光刻胶。
（4）分类：DUV（28nm-7nm制程，量产主流）、EUV（7nm及以下制程，仅ASML量产）。
（5）技术难度：单台EUV包含10万个零部件，需全球数千家供应商协作，售价超1.2亿美元。
（6）市场格局：寡头icon垄断，阿斯麦ASML（荷）、佳能icon（日）、 尼康icon（日）全球份额82.1%、10.2%、7.7%。
二、四大核心系统
2.1 光源系统
（1）功能：提供特定波长的高能光束，如DUV（深紫外光）、EUV（极紫外光）。
（2）部件：ArF/KrF准分子激光器（DUV）、等离子体icon光源（EUV）。
2.2 照明系统
（1）功能：对光束进行扩束/调整、提升均匀度、控制曝光剂量。
（2）部件：扩束装置、光束矫正器、光瞳整形单元、光场匀化器等。
2.3 投影物镜系统
（1）功能：将掩模版图案缩小并投影到硅片上。
（2）部件：DUV采用高精度透镜icon组（20-30片）；EUV采用全反射镜组（7-10片）。
2.4 双工件台系统
（1）功能：实现掩模版-硅片的同步扫描和步进运动，提高光刻精度与效率。
（2）部件：晶圆台+掩模版台，两个工件台循环交替运行（一片曝光时另一片测量）。
三、国内相关供应商
（1）整机：上海微电子（张江高科icon参股10.78%）。
（2）光源系统：科益虹源、波长光电icon（平行光源系统）、福晶科技icon（准分子激光器晶体iconLBO/BBO）
（3）光学系统：国望光学、炬光科技icon（光场匀化器）、茂莱光学icon（DUV光学透镜）、腾景科技（合分束器）。
（4）双工件台系统：华卓精科icon、奥普光电icon（长春光机所icon技术转化平台，光栅尺用于工件台位移测量）。
（5）辅助系统：海立股份icon（冷却系统）、蓝英装备icon（清洗系统）、启尔机电（浸没系统）。
