竹未晞/文

前不久，一则关于千台ASML光刻机陷入维修困境的消息，再次将中国半导体产业的设备依赖问题再度推向舆论焦点。

公开报道显示，中国大陆累计部署的1027台ASML光刻机中，三成已面临配件断供危机，中芯国际一台2022年以8000万美元购入的深紫外线光刻机，因超期三个月未更换氟化氩激光器，生产良率从98%骤降至82%，总价值超800亿美元的设备面临沦为废铁的风险。

这场由“维修封锁”引发的产业危机，既是对中国半导体供应链韧性的严峻考验，也意外成为国产光刻机技术突破与自主维修体系建设的“催化剂”。

在政策加码与市场倒逼的双重驱动下，中国光刻机产业正从“被动承压”转向“主动破局”，在技术研发、维修服务、产业链协同等领域呈现出多元突破的新格局。

技术突围：从“跟跑”到“并跑”

面对ASML在14纳米以下先进设备的禁售与维修封锁，中国并未陷入技术停滞，而是通过“成熟制程夯实基础、先进技术多元探索”的策略，逐步构建自主技术体系。

根据国际半导体产业协会（SEMI）最新发布的统计数据，2024年中国大陆半导体设备市场的规模预计达到490亿美元，其中本土生产设备的占比首次超过50%。

这一具有里程碑意义的突破意味着中国半导体设备产业正在从长期的“跟跑”阶段，迈入与国际同行“并跑”的全新发展时期。

从具体细分领域来看，国产设备在不同应用环节的渗透率呈现出明显差异。在清洗设备、去胶设备等技术门槛相对较低的领域，国产设备的市场占比已超过70%，实现了较高程度的自主替代；而在刻蚀设备、薄膜沉积设备等对技术要求更高的关键环节，国产设备的国产化率也达到了40%至60%的区间，逐步打破海外企业的垄断。

不过，在所有半导体设备中技术壁垒最高的光刻设备领域，国内市场目前仍高度依赖ASML等国际头部企业。

这种“不同环节、梯度渗透”的国产化格局，清晰地体现出中国半导体设备产业遵循“由易到难、循序渐进”的自主替代路径，在稳步突破中推动产业整体升级。

目前，上海微电子、璞璘科技等企业的技术突破与产业化进展，标志着国产光刻机已从实验室走向生产线验证阶段。

作为国内光刻机整机研发的核心力量，上海微电子经过多年发展，已经形成了较为成熟的技术与产品线。

其SSX600系列步进扫描投影光刻机已实现90nm及以下制程的稳定量产，采用四倍缩小倍率投影物镜与高速高精自减振工件台技术，可满足功率半导体、汽车电子等成熟制程需求。

截至2025年，该系列设备出货量占国内光刻机市场份额超80%，支撑了国内近30%的成熟工艺芯片产能，设备维护响应周期较进口设备大幅缩减，单台采购成本比ASML同级别产品低40%左右。

更具里程碑意义的是，上海微电子已于2025年5月完成交付28nm浸没式光刻机，目前已送样至中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂进行工艺适配，预计在2025年实现量产。

本次交付的28nm光刻机采用ArFi（氩氟浸没式）技术，通过193nm波长光源与浸没式液冷系统的结合，实现等效134nm分辨率，可支持7nm及以上制程的多重曝光工艺，这一进展弥补了国内技术的部分空白。

此外，根据行业预测，上海微电子计划在2026年推出28nm DUV光刻机，目标覆盖国内70%的成熟制程需求，这将进一步改变光刻设备市场的竞争态势。

同时，据报道，2025年9月，中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇生产的深紫外线（DUV）光刻机，正测试的光刻机采用浸没式技术，类似于ASML所采用的技术。

报道称，如果能够量产先进的DUV光刻机，这将是中国大陆突破美国芯片出口管制的重大胜利，不仅能减少对西方技术的依赖，还能提升先进AI处理器的产能。

另一方面，在先进技术路线上，中科院光电所的全固态深紫外激光光源技术为国产光刻机提供了新的突破路径。

这套技术采用完全自主的研发路线，能够输出波长193纳米的相干光，与当前被广泛采用的DUV曝光技术的光源波长一致。

尽管中科院的技术在光谱纯度上已接近商用标准，但其输出功率和频率仍远低于现有技术，尚无法满足高产能晶圆制造的需求。

但本次突破，国产设备开辟了创新道路，其更高的电能转换效率与更低的维护成本，有望在未来形成差异化优势。

除此之外，杭州璞璘科技通过纳米压印光刻（NIL）这一替代技术也实现了国内技术的新突破。

其于2025年8月交付了首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，成为我国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统，可实现10nm级制程加工。

由于其不依赖于昂贵的激光光源，压印技术的成本大大低于EUV，同时还可以实现更高的生产效率。纳米压印光刻机为芯片制造厂商，提供了一条低成本的替代路径。

维修破局：自主服务体系的崛起与实践

ASML实施“维修封锁”后，光刻机配件及常规保养需逐案审批，国内晶圆厂面临设“备停摆即产能流失”的困境。

在此背景下，一批具备自主技术能力的维修企业迅速崛起，通过技术攻关与模式创新，逐步破解“只卖不修”的行业困局，形成了覆盖设备翻新、故障维修、备件供应的全链条服务体系。

国内目前已形成以佳鼎半导体、东方嘉盛、上海图双精密等企业为核心的自主维修力量，其技术能力已通过实际工程案例验证，可不依赖荷兰技术与配件完成主流光刻机的维修维护。

反做空一线对几家重点自助维修的企业进行了简单整理，如下表所示：

从上述表格可见，当前国内光刻机自主维修企业已形成多元化服务体系，成为破解 ASML “维修封锁”、保障国内晶圆厂产能稳定的关键力量。

这类企业依托技术攻关与模式创新，覆盖从成熟制程设备翻新到核心备件替代的全链条需求，既填补了进口维修服务的缺口，也推动了半导体设备维护的国产化进程，为国内半导体产业自主化提供重要支撑。

从企业特点看，不同主体形成差异化优势。佳鼎半导体以“全谱系技术能力”为核心，是国内唯一完成 ArF、KrF 等全系列光刻机工程案例的团队，可实现光学系统翻新、工件台改造等深度维修。

东方嘉盛侧重“模式创新”，依托国内首个光刻机保税维修仓，通过数字化供应链平台压缩备件交付周期，主打高效响应与成本控制。

上海图双精密聚焦“设备改造与自研”，既研发出1μm对准精度的掩模对准曝光机，又能为老旧设备提供光学系统优化、跨衬底适配改造，还拥有套刻精度验证相关专利。

北京亚科晨旭则以“检测设备集成”为特色，通过转化Quadra™ X 射线检测、EVG 计量系统等国际设备，适配SiC检测、先进封装量测需求，同时提供全生命周期运维服务，覆盖多领域场景。

这些企业的技术突破直接缓解了国内晶圆厂的燃眉之急。东方嘉盛曾在2024年的采访中回应，公司已与国际头部芯片半导体厂商合作，公司寄售维修保税仓使用率已处于高位水平。

国产技术需要跨越信任壁垒

尽管近年来国产光刻机产业取得显著进展，但在技术攻坚、产能建设、生态完善等方面仍面临诸多挑战，产业界对此保持着清醒认知。

荷兰 ASML 在全球光刻机领域的垄断地位，本质是“技术壁垒+生态绑定+地缘妥协” 的三重叠加。

作为全球唯一能量产极紫外（EUV）光刻机的企业，其设备包含10万余个零件，需全球超500家供应商协同制造，研发投入常年占营收15%以上，这种“全球技术整合”能力形成了难以逾越的护城河。

美国主导的技术封锁已从尖端领域蔓延至成熟制程，给我国厂商带来全链条冲击。2025年新规将限制范围扩展至3nm以下技术、量子计算设备及先进材料制造设备，实施 “推定拒绝”审批原则，连澳门地区也被纳入管制。

更严峻的是，2024 年荷兰政府撤销部分已颁发的出口许可证，涉及分辨率 90 纳米及以下的DUV设备，直接导致中芯国际等企业产能扩张计划延迟。

我国在自主化领域的突破值得肯定，但清醒认知差距是持续前进的关键。

图源：图虫创意

上海微电子28nm浸没式光刻机、全固态深紫外激光光源技术等，这些进展印证了封锁倒逼创新的现实，但必须正视我们的技术代差仍客观存在，ASML High-NA EUV已进入客户验证阶段，而我国刚实现 28nm 量产突破，先进制程差距达两代以上。

其二，我国生态协同尚处初级阶段，ASML 通过与顶尖晶圆厂共建实验室实现设备与制程深度绑定，我国设备企业仍需时间积累客户验证数据。

同时，我国的供应链韧性待加强，光刻机所需稀土加工我国占全球80%，但高端光学材料等仍依赖进口，存在“反制手段与自身短板并存”的局面。

而更深层的现实是，即便面临外部封锁，国内厂商对自研替代技术的选用仍保持审慎，这种态度背后是多重现实因素的叠加。

最核心的障碍在于市场验证缺失形成的信任壁垒。半导体设备的特性决定了其必须与下游产线深度磨合，从研发阶段就需要设备商与晶圆厂协同迭代，这种长期绑定关系让企业难以轻易更换供应商。

中微公司创始人尹志尧曾直言，正因为技术和设备被西方垄断，准入门槛不对称，企业用了美国的设备20年，突然中国的一个新公司说“你用我的新设备”，一般来说人家是不愿意试用的。

对晶圆厂而言，更换设备意味着要承担磨合成本、良率下降乃至订单丢失的风险，这些损失远大于国产设备可能带来的成本优势。

ASML的设备经过数十年市场验证，已与台积电、三星等企业的制程工艺形成深度适配，而国产设备即便技术参数达标，也缺乏大规模量产场景下的性能校验，这种 “无经验可循” 的不确定性让厂商望而却步。

成本与收益的失衡同样制约着替代进程。中芯国际2021年斥资12亿美元续签ASML 采购协议的举动，便凸显了在市场商机与技术风险间的现实选择，即便面临交付不确定性，成熟设备仍是产能扩张的优先选项。

这些因素共同构成了自主化路上的“隐性门槛”，也让清醒认知显得尤为重要，ASML 前总裁温宁克所言的“封锁只会逼中国加速自研”并非虚言，但加速不等于捷径。

国产技术从实验室走向产线，不仅需要突破技术瓶颈，更需要跨越信任壁垒、成本陷阱与生态鸿沟，而这一切都离不开时间与市场的锤炼。正视厂商对自研技术的审慎态度，理解其背后的现实考量，才能更客观地把握自主化进程的节奏与方向。

[引用]

①　ASML垄断不行再下重手，上千台光刻机变废铁？外媒：真实水平暴露.今日头条.2025-10-25

②　2024年光刻机行业专题报告：国之重器，路虽远行则将至.东兴证券.2024-08-23

③　2025年半导体国产替代产业研究体系：国产设备占比首超50%背后的机遇与挑战.远瞻慧库.2025-05-09

④　曝中芯国际测试首款国产DUV光刻机！可生产5nm.快科技.2025-09-17

⑤　中科院全固态DUV光源技术突破！.芯极速.2025-03-25

⑥　中科院成功研发全固态DUV光源技术！.新浪科技.2025-03-25

⑦　国产芯片换道超车！首台纳米压印光刻机交付，正式打破国际垄断！.搜狐网.2025-08-08

⑧　共同推进供应链行业发展 深圳市政府与东方嘉盛座谈交流.东方嘉盛.2024-06-14

⑨　风机故障检修支持虚拟专家，准确率突破90%！AI开启风电检修效率革命.东方风力发电网.2025-05-22

⑩　年报系列①：36亿，东方嘉盛如何靠数字供应链+跨境电商增20.5%？.搜狐网.2025-04-28

⑪　东方嘉盛：不断创新，打造一体化4PL数字供应链服务新标杆.中国企业网.2023-09-22

⑫　ASML再次修改对中国的看法：中国企业总有办法突破封锁，我们输了.今日头条.2025-04-14

⑬　《上财商学评论》专访中微公司创始人、董事长尹志尧：花甲再创业，只为不再“芯”痛.网易号.2022-07-22

⑭　中芯国际和ASML采购协议延长一年 涉资总价格逾12亿美元.新浪财经.2021-03-04

⑮　东方嘉盛：与国际头部芯片半导体厂商合作，寄售维修保税仓使用率高，推进自建仓库建设，积极探索半导体产业链业务延伸机会.搜狐网.2024-09-10