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科技重大突破,光刻机已经打造出来,技术封锁又突破一项 中国已经打造出来了光刻机的

科技重大突破,光刻机已经打造出来,技术封锁又突破一项 中国已经打造出来了光刻机的原型机,虽然还不能刻录芯片,但是EUV光已经出来,预示着基础已经有了。 这里要划重点了,这消息说的是今年年初,现在是年末了才爆出来,那么肯定技术上面再次做出来了重大突破才会把消息放出来,这也是一直中国的作风。 光刻机和芯片不一样,芯片中国已经能够国产替代,甚至外销了。光刻机这东西一直没有突破技术,有了光刻机可以说以后要在科技方面进行封锁,那就没那么容易了,可以说这次是走出封锁圈,提升到战略的地步了。

评论列表

用户14xxx14
用户14xxx14 30
2025-12-18 16:43
如果中国突破深紫外光刻机,应当向所有参与光刻机研发、建造的技术人员予以重奖并认命为国家英雄

上善药水 回复 12-18 17:20
深紫外线(DUV)光刻机早做出来了,现在要攻克的是极紫外线(EUV)光刻机

画风 回复 12-19 19:08
你看看专家团队都是什么肤色,看看菊花研发团队都是什么色眼珠,这消息是英国媒体剧所谓内部小道消息的文章,水很深,你相信中国媒体还是外国媒体?

万里江山
万里江山 14
2025-12-18 12:23
关键是镜头,需要有多个凹面反射镜,而且反射镜要能达到原孑级平面度,在此基础上镀原子级厚度的膜,如果这几个问题能解决,EUV就不难了
用户27xxx35
用户27xxx35 13
2025-12-18 17:00
EUV26年底差不多,27年量产,28年芯片自由,25年中下旬深紫外DUV出来,26年机器量产
红糖咖啡
红糖咖啡 9
2025-12-18 17:20
一看就是摸黑新闻
半导体新能源科技观察
半导体新能源科技观察 8
2025-12-19 05:41
更正一下:中国首台EUV光刻机不是什么前ASML工程师制造!而是由华为牵头并主导技术研发,深圳新凯来负责制造,是妥妥的中国制造!而且使用的原理也跟ASML的EUV光刻机完全不同。EUV光刻机正在华为的芯片工厂进行测试调试并小量试产,等良率达标后,将会正式投入使用。大家不用急,应该快了,也就是这一两年的事!我为什么知道这事?因为光刻机实验室是我们建的。
用户10xxx59
用户10xxx59 4
2025-12-19 13:03
今年买了p80pro+,明年买一部p90pro max,然后等到2030年再买华为旗舰,等国产芯片崛起
babykao520
babykao520 3
2025-12-19 08:59
几千纳米的?