中国的国产光刻机有望实现“遥遥领先”!据消息人士透露,中国科学家已经打造出一台极紫外光刻机(EUA)的原型机,极紫外光刻机是实现高良率8纳米以下芯片制造的必要设备。中国并非不能生产8纳米以下的芯片,只是良率不达标,导致生产成本过高,需要攻克关键设备、材料、工艺等技术。虽然难度很高,但中国的技术突破能力有目共睹,假以时日必能取得成功。

中国的国产光刻机有望实现“遥遥领先”!据消息人士透露,中国科学家已经打造出一台极紫外光刻机(EUA)的原型机,极紫外光刻机是实现高良率8纳米以下芯片制造的必要设备。中国并非不能生产8纳米以下的芯片,只是良率不达标,导致生产成本过高,需要攻克关键设备、材料、工艺等技术。虽然难度很高,但中国的技术突破能力有目共睹,假以时日必能取得成功。

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