高市还是太嫩了点， 以为捏着九成高端光刻胶市场，把10天审批拖到90天，就能让咱们的光刻机变废铁，想太多了。 ​2025 年底日本经产省官宣加码管制，把原本十天就能办完的 i 线光刻胶审批，硬生生拉长到九十天。 日本这招挺狠的。他们就想打时间差。拖你三个月，你生产线就得等三个月。他们觉得这样就能卡住你。 光刻胶这东西，确实是芯片制造里最要命的一环。它涂在硅片上。然后用光刻机曝光。最后刻出电路图。这东西不行，再好的光刻机也是废铁。 日本企业很厉害。全球高端光刻胶市场，他们占了九成以上。尤其是最先进的EUV光刻胶。全世界就几乎只有日本能造。2024年，中国进口的光刻胶里，超过一半是日本货。最关键的ArF、KrF光刻胶，我们九成多都得靠他们。 所以日本有底气。他们不光拖审批时间。他们从2025年起，给中国的供应配额先砍掉10%到15%。审批时间从两三个月拖到半年。他们还列了个“最终用户清单”。110家中国半导体企业上了榜。连佳能、尼康的技术服务也减少了。这就是明摆着不让你好好干活。 短期看，这招真让我们难受。一些正在爬坡的先进芯片产线，可能真的会被卡住。生产成本也可能涨个百分之十几。企业压力很大。 但高市政府忘了件事。中国人最不怕的就是封锁。你越卡，我们自己干得越快。 国家早就行动了。专门设立了大基金投到光刻胶里。规模有几千亿。还成立了“光刻胶攻关联盟”。把科学家、工程师、企业都聚到一起。以前一个产品验证要两年。现在联盟想办法，一年甚至更短就搞定。 我们的科学家也没闲着。北大彭海琳教授团队干了一件大事。他们用冷冻电镜技术，第一次看清楚了光刻胶在显影液里是怎么反应的。这就像给化学反应装了双“眼睛”。以前全靠蒙，现在有了理论导航。这项技术已经用在生产线上了。它能把一款高端光刻胶的缺陷密度降到国际水平。 国产替代已经跑起来了。2024年，中国光刻胶市场规模大概是80.5亿元。增长很快。在KrF、ArF这些中高端光刻胶上，国产化率已经突破了30%。南大光电、彤程新材、上海新阳这些企业，产品已经打进中芯国际这样的龙头芯片厂。 我们不只盯着光刻胶。光刻机自己也在突破。有实验室已经成功激发出了13.5纳米的极紫外光。这是原型机的重要一步。我们用现有的DUV光刻机，通过多次曝光技术，也能量产7纳米的芯片。这就是在多条腿走路。 日本这么干，自己也疼。中国是全球最大的芯片消费市场。失去这个市场，日本企业的损失很大。他们等于把自己的市场份额，拱手让给中国和韩国的企业。 看看历史吧。当年韩国被日本限制材料，结果呢？韩国拼命搞出了自己的供应链。现在轮到我们了。压力越大，反弹越狠。 这场博弈，是全球产业链的一次权力重组。日本想用今天的技术垄断，锁死我们明天的发展。他们没看懂的是，中国最不怕的就是封锁。那些想卡我们脖子的手，最终都变成了推着我们自主创新的力量。 光刻胶的战争，只是芯片大战的一个缩影。它让我们彻底清醒。核心技术必须攥在自己手里。这条路很难。要坐很久的冷板凳。但当我们走通了，就不会再受制于人。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。