海牙再出狠招，ASML DUV光刻机对华交付全面受限 荷兰当局在2024年对中国的新出口管制措施，将进一步限制浸润式DUV光刻机的出口，ASML的NXT:2050i等机型也被纳入限制清单，这些机型若未获批准不得交付。 这将直接影响国内晶圆厂扩产与维保的进度，尤其是中芯国际和华虹集团等企业的28纳米以下制程项目。 荷兰当局出台针对中国的光刻机出口管制措施，存在美国施压的外部因素。美国方面意图通过出口管制的方式，限制中国获取先进芯片制造技术。 在此背景下，荷兰当局调整了相关出口政策，对中国获得特定芯片制造设备和技术施加了限制。 ASML位于荷兰，浸润式DUV光刻机是其核心产品之一。浸润式DUV光刻机的技术指标，是衡量光刻机技术水平的一个重要标志。 需要明确的是，ASML的NXT:2050i等浸润式DUV光刻机型号，采用的是193nm浸润式光刻技术，与13.5nm极紫外（EUV）光刻技术分属不同技术路线，EUV光刻设备对应的是ASML的NXE系列机型。此类DUV光刻机出口受限，客观上会对中国获取相关芯片制造技术形成阻碍。 ASML在荷兰经济中占据重要地位，是荷兰具有重要影响力的高科技企业之一，为荷兰创造了大量产值与就业岗位。 限制相关光刻机出口，势必会对ASML的订单规模与营收状况产生一定影响。从经济数据来看，荷兰并非欧洲第一大经济体，其出台出口管制政策，官方表述是基于国家安全相关考量。 面对荷兰的新限制，中国的应对措施是加快国产替代步伐，推动材料、设备等相关产业链的自主研发。短期内，DUV光刻机的出口审批将成为中荷相关领域互动博弈的重点。 从长期发展趋势来看，经过这一轮的技术限制，国内半导体产业上下游的协同研发力度正在加大，相关产业链生态正在逐步完善，28纳米以下部分技术节点的国产替代进程在持续推进，不过完全实现全技术节点量产替代，仍需要较长时间的技术攻关与产业积累。 荷兰这次限制DUV光刻机出口，真给咱们提了个醒。核心技术靠买根本不踏实，中芯国际这些企业的扩产计划受影响，就是因为咱们在高端光刻机上没攥住主动权。 技术上可不能糊涂，DUV和EUV得分清，别被带偏了节奏。国产替代不是喊口号，得靠产业链上下游一起发力。当然也不是关起门来搞，得在开放里把自己的安全底线筑牢，一步一个脚印才能真正站稳脚跟。光刻芯片