“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”前年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。

这话一出来，不少人跟着焦虑，觉得中国在芯片领域这辈子都要被卡脖子，也有人反驳，说荷兰ASML明明就能造出光刻机，这话纯属瞎扯。

其实两边都没说到点子上，朱士尧教授说的“造不出”，根本不是指所有光刻机，而是最先进的EUV光刻机，而且是单独一个国家，根本造不出来。

荷兰ASML确实能造出EUV光刻机，但它自己也不止一次公开承认，单靠荷兰一个国家，根本干不成这件事。

大家可能不知道，光刻机这东西，根本不是一个国家能“单打独斗”造出来的，它是全球工业分工的顶尖产物，复杂到超出想象。

就拿ASML最先进的EUV光刻机来说，一台机器里光精密零部件就超过10万个，这些零件来自全球5000多家供应商，横跨十几个国家。

咱们平时买个家电，零件能来自几个省份就不错了，光刻机的零件却得从全球各地凑齐，少一块都不行，差一点都装不起来。

具体来说，光刻机的核心光源，靠的是美国技术，美国Cymer公司是全球EUV光源的主要供应商，ASML的EUV光刻机，核心光源全靠这家公司提供。

而光刻机的“眼睛”——反射镜，被德国蔡司垄断，这家有175年历史的企业，花了50年时间研究光刻镜头，它生产的EUV反射镜，表面平整度能达到原子级别。

说出来大家可能不信，要是把这个反射镜放大到地球那么大，上面的凸起都不能超过一根头发丝。

现在全球80%的芯片，都要用蔡司的光学元件制造，没有蔡司的反射镜，ASML就算有再多其他零件，也造不出合格的EUV光刻机。

除此之外，光刻机的很多精密零件，比如特殊材料、精密轴承，大多来自日本。

日本的信越化学、JSR等企业，垄断了全球90%以上的高端光刻胶，这种材料是芯片光刻的关键，保质期只有6个月，技术难度极高，目前国内只有少数企业能量产中低端光刻胶。

还有精密轴承，日本的NSK等企业生产的轴承，精度能满足光刻机纳米级的运行要求，其他国家很难替代。

而荷兰ASML做的事情，其实就是把这些来自全球的核心零件，整合组装在一起，相当于一个“超级组装工”。

它的核心本事，不是生产某个单一零件，而是能把10万多个零件完美配合，让光刻机达到纳米级的光刻精度。

这就是朱士尧教授说“美国都造不出”的底气，不是贬低美国技术，是工业现实就摆在那儿。

可能有人会问，美国技术那么强，怎么自己造不出EUV光刻机？其实美国不是造不出核心零件，它的光源技术全球领先，也能生产部分精密零件，但它缺少德国的光学系统和日本的关键材料，没法凑齐所有核心部件。

就算美国想从头搞EUV光刻机，也得依赖欧洲和日本的供应商，根本不可能单独完成。

再说说咱们中国，真的永远造不出光刻机吗？当然不是，而且我们已经造出来了。

上海微电子已经实现了28nm浸没式光刻机的量产验证，2025年底，这家企业还中标了科技部下属实验室的亿元级订单，中标设备型号是SSC800/10，分辨率能达到110纳米，套刻精度不超过15纳米，能满足部分先进科研和产业需求。

国内在光刻机核心部件上也有不少突破，哈尔滨工业大学已经实现了13.5nm极紫外光源的技术突破，这种光源就是EUV光刻机的“心脏”，波长越短，芯片制程越先进，这一突破也为我们后续研发EUV光刻机打下了基础。

福晶科技作为全球非线性光学晶体的龙头，已经成为ASML的核心供应商，全球60%的激光晶体都来自这家中国企业。

茂莱光学在28nm DUV物镜的国内市场国产替代率已经达到60%，单台物镜价值5000万元，也打破了国外垄断。

当然了，我们也得承认差距，目前中国还造不出最先进的EUV光刻机，高端光刻胶、高NA物镜等核心部件，还需要进一步突破。

但这并不意味着“永远造不出”，2025年中国光刻机市场规模参考官媒报道约120亿元，大基金三期计划投入重点支持设备材料领域，地方政府也对光刻企业给予税收优惠和研发补贴，国产替代正在加速推进。

很多人之所以焦虑，就是把“造不出高端EUV”和“造不出光刻机”混为一谈。光刻机的制造，从来不是一个国家的“单打独斗”，而是全球工业技术的集合体。

中国现在要做的，就是一步步突破核心技术，完善自己的供应链，相信用不了多久，我们也能造出属于自己的高端光刻机，摆脱对外依赖。