荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 ASML的表态看似无奈，实则藏着对中国市场的不舍，中国曾是其最大客户，2024年销售额占比高达36%，如今因封锁跌至27%，即便如此，它仍想稳住中国区25%以上的份额，不愿彻底失去这片市场。 美国的封锁早已层层加码，不仅禁止EUV整机出口，连核心零件、生产材料都全面限制，荷兰被迫跟进，让中国企业彻底断了外购高端光刻机的念想，只能走上自主研发的道路。 中国的研发投入绝非空喊口号，半导体设备领域年均增速超20%，国家大基金累计投入超3500亿元，企业研发经费连年攀升，全产业链都在为光刻机突破集中发力。 上海微电子28nm光刻机已实现量产，良率稳定超90%，国产化率突破85%，覆盖汽车、物联网等主流芯片需求，成为国产替代的坚实底座，打破了国外在成熟制程的垄断。 EUV光源领域接连传来捷报，哈工大研制出13.5nm波长光源，中科院完成百瓦级功率验证，走出了与ASML不同的技术路线，为高端光刻机突破打下底层基础。 国产设备市场份额持续攀升，2025年大陆半导体设备销售额占全球34.4%，北方华创、中微公司等龙头订单排至2026年，产业链国产化率从15%升至21%，替代速度不断加快。 ASML高管曾断言中国难突破，却低估了中国的攻坚决心，从光刻机整机到双工件台、光刻胶等核心零部件，全链条同步突破，正在构建自主可控的半导体生态。 这场技术较量没有捷径，中国以每年超20%的研发增速稳步追赶，不急于求成，不盲目跟风，用实打实的投入和突破，回应着外界的质疑与封锁。 各位读者们你们怎么看，欢迎评论区讨论。