荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术限制下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 荷兰ASML高层多次表态，中国获取EUV光刻机难度极大，美国把出口管控卡得很严，从2019年起就没有放宽过。ASML首席执行官克里斯托夫·富凯在2025年底到2026年初的几次采访里反复强调，中国断供EUV设备已经八年，技术世代至少落后八代，短期内实现突破难度很大。 外界的看衰和限制，从来都挡不住中国科技前行的脚步。每年超20%的研发投入增速，是国内企业和科研机构实打实的资金支持，每一分钱都砸在光刻技术的核心短板上。 EUV光刻机的技术壁垒确实极高，它整合了全球多国的顶尖技术，不是单一环节发力就能速成。八年的技术断供，也让我们清晰认清了自主研发的必要性和紧迫性。 国内光刻产业链正一步步补齐缺口，28nm成熟制程的DUV光刻机已实现规模化应用，能满足国内多数芯片制造的需求，这是摆脱外部依赖的重要一步。 从光刻胶、光学镜片到双工件台，国内相关企业都在稳步推进国产化研发。没有捷径可走，就靠日复一日的试验和迭代，慢慢缩小技术差距。 ASML的强硬表态，也藏着自身的无奈。中国是全球重要的半导体市场，失去对华合作机会，对其长期发展而言，也是实实在在的损失。 美国的层层管控，反而让国内半导体行业更加团结。政策扶持、企业攻坚、科研助力，三方协同，慢慢搭建起属于自己的产业生态。 我们从不否认眼前的技术差距，也从不幻想一夜之间实现赶超。持续的投入、坚定的坚持，就是打破技术限制最踏实的方式。 八年的困境磨不掉研发的决心，再难的技术关卡，也抵不住常年累月的深耕。中国科技的突围，从来都是靠实干一点点拼出来的。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。