比芯片断供更可怕！中国物理博士尹志尧公开指出：“在半导体领域我们和欧美国家的差距，虽然至少是三代的技术，但这样的劣势只需要花 5 - 10 年的时间来挽回。” 而他如此自信的原因也在于 “人才” 上，他表示：“中国人足够优秀，美国巨头公司的技术骨干、芯片专家基本上都是华人！” 芯片断供带来的压力，大家都能感受到生产线停摆、供应链紧张的滋味。可比这更深层、更值得重视的，其实是人才这张底牌。中国物理博士尹志尧在公开场合直言，半导体领域与欧美存在至少三代技术差距，但依靠人才优势，5到10年就能逐步追上来。他特别提到，中国人足够优秀，美国那些半导体巨头公司的技术骨干和芯片专家，很多都是华人。 尹志尧1944年出生于北京，1967年毕业于中国科学技术大学化学物理系，获得学士学位。之后他在石油化工部、兰州炼油厂和中科院系统工作，负责催化剂产品研究。1978年高考恢复后，他考入北京大学化学系攻读硕士，1980年拿到学位，随后自费前往美国加州大学洛杉矶分校攻读物理化学博士，只用三年半完成学业。 1984年尹志尧进入硅谷，先在英特尔中心技术开发部担任工艺工程师。1986年至1991年在泛林半导体历任研发部资深工程师、资深经理。1991年起，他在应用材料公司工作十几年，从首席技术官做到总公司副总裁，还兼任等离子体刻蚀事业群总经理和亚洲总部首席技术官。在应用材料期间，他参与并领导了多代等离子体刻蚀设备的研发，全球一半以上刻蚀机都有他团队的技术贡献，手里管着超过16亿美元的业务规模，积累了86项美国专利和200多项国际专利。 2004年，60岁的尹志尧决定回国。他放弃在美国的高薪职位，带着15名来自硅谷的核心技术骨干，在上海创办中微半导体设备有限公司。这些骨干大多是他在欧美大厂带出的华人专家。公司起步时，刻蚀机领域几乎被国外完全垄断，国内设备依赖进口比例高达90%以上。中微从零开始，2007年研制出中国首台介质刻蚀机。2018年突破5纳米刻蚀技术并实现批量销售，2019年通过台积电验证，用于全球首条5纳米制程生产线。 他亲身经历过硅谷的研发环境，知道华人专家在英特尔、应用材料等公司的核心团队里占比很高。许多关键技术岗位，华人工程师承担了大量工作，比如5纳米及3纳米的三极管结构相关研究，就有华人教授的贡献。这些人才的优秀和韧劲，让他坚信国内完全有能力在5到10年内把设备自主可控做到位，并向国际先进水平靠拢。 中微的发展印证了这一点。公司刻蚀设备已覆盖从65纳米到5纳米及更先进节点，CCP和ICP设备广泛应用于逻辑和存储芯片产线。2025年前后，刻蚀设备反应台全球累计出货超过5000台，在130多条国内外生产线上实现量产和大规模重复销售。市场份额进入全球前四，与国际巨头并肩。薄膜沉积设备和MOCVD设备也在稳步推进，2024年公司营收约90.65亿元，同比增长44.7%。2025年尹志尧再次入选福布斯中国最佳CEO榜单，并荣膺终身成就奖。 与尹志尧类似，张汝京的经历也展现了华人人才在半导体领域的担当。他曾在德州仪器工作二十年，参与全球多个芯片厂的建设和运营。2000年，张汝京带着团队从台湾省到上海创办中芯国际，初期条件有限，却创下建厂最快纪录，把中芯做到全球前列。后来他创办新昇半导体，解决300毫米大硅片卡脖子问题，又在青岛创立芯恩集成电路公司，探索CIDM模式。这些努力带动一批本土企业和人才成长，许多中芯国际早期的工程师如今成为行业骨干，形成传帮带的良好链条。 中国半导体产业正处于关键追赶阶段。大陆晶圆代工产能占全球一定比例，但先进制程与台积电仍有差距，主要集中在成熟节点如28纳米及以上。这些节点对应汽车、家电、工业控制等广泛应用，市场需求稳定。中芯国际在7纳米工艺上取得进展，良率逐步提升，N+2工艺支持相关芯片量产。 近年来，海外华人专家回国趋势明显。中微等企业全员持股等机制，帮助留住年轻人才。本土工程师队伍不断壮大，研发投入保持高位。中微2025年前三季度研发费用同比增长显著，零部件国产化率大幅提升。公司还规划开发电子束检测设备，填补更多产业链空白。 尹志尧81岁时恢复中国国籍，此前曾在硅谷工作多年持有美国国籍。2024年财报显示他已完成这一转变，继续担任中微董事长兼首席执行官。2025年他第三次入选福布斯中国最佳CEO，2026年仍活跃在产业一线。 比起短期断供带来的冲击，人才优势才是长远底气。中国人有足够的能力和韧劲，只要坚持自主创新，半导体领域就能一步步缩小差距，实现从跟跑到并跑甚至领跑。尹志尧的观点和中微的实践，都在告诉我们，真正的竞争力来自自己人，来自一代代科技工作者脚踏实地的努力。 我要上精选-全民写作大赛