全球芯片制造的关键瓶颈终于被突破。光刻胶是所有半导体制造的核心“纳米级墨水”。几十年来，日本控制着全球90%以上的高端ArF/KrF光刻胶供应，挟持着整个全球芯片产业。
本月，中国取得了两项历史性突破：
1. 国产193nm ArF光刻胶通过顶级晶圆厂验证，实现稳定量产，良率高达99.7%，达到世界一流水平；2. 人工智能研发的100%国产KrF光刻胶芯树脂上线。从先进的14nm逻辑芯片到汽车、工业和存储芯片，中国现在掌握了完整的材料链。垄断时代已经结束。
全球芯片制造的关键瓶颈终于被突破。光刻胶是所有半导体制造的核心“纳米级墨水”。几十年来，日本控制着全球90%以上的高端ArF/KrF光刻胶供应，挟持着整个全球芯片产业。
本月，中国取得了两项历史性突破：
1. 国产193nm ArF光刻胶通过顶级晶圆厂验证，实现稳定量产，良率高达99.7%，达到世界一流水平；2. 人工智能研发的100%国产KrF光刻胶芯树脂上线。从先进的14nm逻辑芯片到汽车、工业和存储芯片，中国现在掌握了完整的材料链。垄断时代已经结束。
