UBS 再次上调全球 WFE，也就是晶圆厂设备市场预测，并明确将当前阶段定义为“超级周期的早期阶段”。

支撑这次上调的一个关键信号，是客户开始向半导体设备供应商提供长达八个季度的需求可见度。

UBS 特别强调，这是其覆盖半导体设备行业近三十年来从未见过的情况。

现阶段更现实的约束仍是洁净室空间、设备安装进度以及客户产能规划，而非光刻机绝对产能。

与此同时，主要设备厂商已经开始提前协调二级供应商，以避免零部件供应限制未来出货。

从设备结构看，沉积和刻蚀设备仍将持续跑赢光刻。

✐ 北方华创：平台型双料龙头

刻蚀：ICP（导体刻蚀）国内第一，市占约48%。沉积：PVD国内垄断，CVD/ALD快速追赶。

✐ 中微公司：刻蚀绝对龙头

刻蚀：CCP（介质刻蚀）国内第一，市占约47%；5nm通过台积电验证。沉积：LPCVD/ALD新进入者，高增长。

✐ 拓荆科技：薄膜沉积龙头

沉积：PECVD国内市占>60%，12英寸量产；ALD快速放量。股票曝蔡琳高梓淇都不愿意为对方学习语言