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半导体材料领域品类繁杂,国产化突破呈分层、渐进式特征。材料包括硅片、光刻胶、电子

半导体材料领域品类繁杂,国产化突破呈分层、渐进式特征。材料包括硅片、光刻胶、电子特气、靶材、抛光耗材等数十个品类,技术路线复杂且认证周期漫长1。目前,国内应用于成熟制程的中低端材料已实现稳定批量供货,市场份额逐步提升;而用于先进制程的高端材料,如高端光刻胶、硅片等,仍主要依赖进口,本土产品多处于测试或小批量试用阶段1。与设备相比,材料赛道的业绩兑现速度通常更慢,需要更长时间的技术沉淀和市场验证1。不过,随着本土晶圆产能扩张,基础材料需求同步走高,为本土企业提供了广阔的市场空间。近期,存储扩产、海外原材料(如硅片)涨价、国产化替代等多重逻辑持续兑现,也为材料板块带来了密集催化2

这里讲的是半导体设备之材料

1、涂胶显影设备(东京电子):芯源微2、陶瓷零部件(日本京瓷、碍子、大和):珂玛科技、先锋精科3、光刻胶(信越、JSR):彤程新材、鼎龙股份、上海新阳等4、石英件(大和):凯德石英5、测试机(爱德万):长川科技、华峰测控、精智达6、探针台(东京电子、东京精密):矽电股份7、靶材(日矿金属):江丰电子、欧莱新材、阿石创8、掩膜版(凸版印刷、DNP):路维光电、清溢光电9、先进封装(日系细分领域龙头):联瑞新材、华海诚科10、硅零部件/硅材料(SKC、三菱电机):神工股份11、划片机(东京电子、东京精密):光力科技