拓荆科技，这就是科技的力量一、PECVD（等离子体增强化学气相沉积，核心主力产品）二、ALD 原子层沉积设备（高精密超薄镀膜）三、Gap-Fill 沟槽填充 CVD 系列（超高深宽比孔洞填充）四、混合键合设备（晶圆三维集成）