【中国修订法规，加强对芯片设计的保护】

（路透社）——中国修订了集成电路布图设计保护条例，收紧了注册标准，并允许对严重侵权行为处以惩罚性赔偿，以期更好地保护国内芯片技术。

据新华社周一发布的一份文件显示，司法部和国家知识产权局表示，李强总理于7月23日签署的修订条例将于10月15日生效。

这些规则涵盖了详细的布局，决定了芯片内组件的排列方式，这些设计可以反映大量的工程工作，即使对于不自己制造芯片的公司来说，也是半导体开发的核心。

这些措施并不等同于出口管制，但反映出北京方面越来越重视中国企业开发的技术。

在美国接连实施限制措施后，中国半导体行业加快了开发国产替代方案的步伐，这些限制措施阻碍了中国获取先进的半导体设计软件和制造设备。

据《金融时报》上月报道，中国决策者还考虑采取更广泛的措施，防止具有战略意义的国内技术被转移到海外或被外国公司收购。

该报称，这些提案可能包括对基于中国设计的高端芯片在海外生产的限制。

周一公布的修订旨在提高复制此类作品或获取他人设计成果的法律权利的难度。

申请人必须证明其申请源于真正的创造性活动，提交原创性声明，并在向主管部门提交的材料中明确标注原创要素。

监管机构将有权驳回明显不符合上述要求的申请，同时这些修订也为对本不应获批的注册提出异议提供了更明确的依据。

“通过提高原创性标准、收紧注册要求并惩处恶意申请，北京正试图筛除低质量的申请，并甄别出真正具备技术实力的企业，”安库拉中国顾问公司驻北京董事总经理阿尔弗雷多·蒙图法尔-赫卢表示。

新规强化了侵权救济措施，允许根据权利人遭受的损失或侵权人获得的收益来计算损害赔偿。对于严重案件，法院可判处惩罚性赔偿。

新规还明确了集成电路布图设计权的许可、转让或作为抵押的使用方式，并要求主导其创作的组织向符合条件的人员提供合理的奖励和报酬。