俄罗斯和白俄罗斯联合设计开发的首台 130 纳米光刻机：测试工作即将完成，计划2026年年底之前投用而后批量生产；而 90 纳米样品正在研发中

注：【白俄Planar公司故纸堆翻新升级科研法——193nm光源在1980年代末期完成开发，1990年代初期就被东方某国样品和全套技术资料论斤买走了；此光源理论上可以做到28-7nm（多次曝光）】

2026年9月27日

苏联最后的遗产和基于白俄Plannar公司及其产业链发展——后苏联时期光刻机技术被忽视，研发工作从曾经停滞不前的350纳米（纳米的拓扑学标准）开始。该项目于2022年启动，350纳米工艺的量产光刻机于2026年完成，130纳米工艺设备的研发也接近尾声

据俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克于2026年9月26日向俄罗斯记者透露，俄罗斯国内光刻技术的形势已不像2022年那样黯淡。目前已取得两项技术突破： 1）已研发并投入批量生产的350纳米工艺光刻机设备；2）即将完成的130纳米光刻机原型机测试

预计130纳米光刻机于2026年底全面投入运行，并于2027年开始批量生产。350纳米光刻机的研发过程中使用了俄国境外的激光器，但现在已被俄国产激光器取代。130纳米系统从研发阶段就采用了俄国产激光器。俄国生产的首批光刻机是与白俄罗斯同行合作的成果（他们隶属于Planar工厂，该工厂自苏联解体以来也一直致力于此类设备的研发 ）

显然，光刻市场并非大众市场，但即使是350纳米制程的设备也有市场需求。俄罗斯正在考虑未来出口其设备的可能性，例如出口到印度和伊朗，并且正与这些国家合作开发微电子设备

俄国计划在2027年推出量产的130纳米光刻机设备，而目前已在积极研发下一代更紧凑的90纳米光刻技术。这些设备应用并不需要超精细的工艺配套。这正是俄国在微电子制造领域实现自主权的基础。接下来的研发项目是更加现代化的技术，自主研发的28纳米工艺和光刻机设备将是这一进程中的第一个重要里程碑

当前项目研发计划在2030-2032年实现28纳米的“跨越式”光刻技术发展。目前俄国正在大规模重建高度复杂的俄境内芯片制造设备和材料产业链。如350nm光刻机的研发初期就使用了进口零部件建造首批设备，然后实现零部件的俄产化替代（激光器、透镜、材料等）。而到了130nm/90nm光刻机设备开发，基本实现了研发阶段的全部产业链配套内部化。这些都是为28nm光刻机设备和工艺打下的基本基础条件

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