华人公司设计出了最先进的英伟达B200芯片，宝岛团队生产出了2纳米芯片，但是用的核心设备是荷兰阿斯麦生产的EUV光刻机和日本的EUV光刻胶。
我国在全力攻克EUV光刻机生产技术，目前国产DUV光刻机只能生产28纳米芯片，技术难点主要在极紫外光源和高精度镜片，要批量生产高精度镜片，需要有高精度机床，靠顶级工匠人力打磨，那么一年也打磨不出多少块可用镜片，成本太高了。
美国的马斯克则在努力尝试生产芯片，以免关键时刻被台积电、三星卡了脖子。他可以买到EUV光刻机和光刻胶，就是没有达到同样标准的无尘生产车间，空气里有尘灰的话，先进芯片良品率暴跌，利润也会暴跌。2纳米