说实话，目前在半导体设备领域，中国最缺的就是一台EUV光刻机。

因为EUV光刻机是进入7nm以下，必备的半导体设备之一，全球目前只有ASML一家能够制造，为了阻挡中国芯片产业的发展。

美国早就禁止了ASML将EUV光刻机卖给中国，希望用这个办法来限制中国芯片产业的发展。

也正因为没有EUV光刻机，所以中国一边是在用浸润式DUV来进行多曝光，虽然目前也进入了7nm，下一步就会进入5nm。

但说实话，用DUV与用EUV还是不一样的，DUV需要多重曝光，所以成本更高，良率也更低，同时生产效率也更低的。

所以，如果有EUV，谁愿意用DUV，这不是没有办法才能DUV的么？

所以，随着芯片技术的发展，我们肯定要进入EUV时代才行的，那么中国究竟能不能研发出EUV光刻机？这个问题也是很多人关心的。

最近ASML的CEO面对媒体时称，中国独立造出光刻机不是不可能的，只不过需要时间，需要庞大的投入，需要多年的试错。

事实上，这个观点，ASML的前任CEO也表达过，意思也是很明显的，那就是EUV光刻机中国一定制造的出来，并且如果他们不卖EUV光刻机给中国，中国就一定会自己造出来，因为中国没有退路，只能研发了。

同样的问题，最近日本媒体也问了网友，这些网友们的回答也是很明确，那就是大家都认为中国肯定能够独立造出EUV光刻机来。

他们举了好多例子，称以前大家都觉得中国汽车，中国手机，中国电视，是肯定PK不过日本汽车，日本手机，日本电视，但如今呢？大家都在用中国的手机，中国的电视，甚至还买中国的汽车了。

他们认为，中国EUV光刻机造出来是没有问题的，但很大可能性是和ASML的不太一样。

他们认为，中国可能会基于中国自己的实际需求，实现的科研能力，以及需要的生态体系，研发出媲美EUV光刻机的产品，但形态可能与ASML的不一样，但功能一样，甚至会更加先进。

他们认为，一旦中国研发出这样的产品来，形成了属于中国自己的生态体系，那么以ASML为中心构建的EUV体系，可能就会崩塌了，而这也是中国科技产业一直在干的事情。

那么结果会不会是这样呢，就让我们拭目以待了，看看中国的EUV光刻机，到底还需要多少年才能研发出来。