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ASML净利暴涨133%!订单排到2030年,国产EUV光源亮相

全球光刻机市场进入史无前例的供不应求周期:ASML三季度净利润暴涨133%、营收创历史新高,订单已排至2030年;佳能宣布明年产能翻倍,蔡司订单排至2027年。与此同时,中国大陆采购DUV设备回暖至23%占比,国产EUV光源样机首次亮相工博会。两条线并行——全球抢机器,国内补缺口。

116.6

亿欧元

ASML Q3净销售额,创单季历史新高

49.6

亿欧元

Q3净利润,同比暴涨133%

57.5

%

毛利率,超出指引区间上限

2030

年

已有客户询问该年度订单

23

%

中国大陆本季占ASML净销售额占比

90

%

国产EUV光源样机国产化率

为什么2026年集中爆单?

①

AI驱动先进制程扩产

AI算力军备竞赛推动台积电、三星、SK海力士加快逻辑与存储芯片产能建设,EUV、ArFi设备需求同步激增

。

②

存量设备升级需求爆发

客户在现有产线上购买生产效率升级方案,ASML"安装基础管理业务"单季达32.89亿欧元,高于29亿欧元指引——这正是净利润大幅超预期的主因

。

③

先进封装拉动后道光刻

HBM等先进封装工艺兴起,尼康启动更高精度数字光刻设备研发,佳能先进后道设备询价从2025年中开始急增

。

订单谈到2030年! 国际巨头, 业绩爆发

北京日报

q3净利暴涨133.4%! asml: 客户开始订购2030年设备!

芯智讯

asml财报出炉, 光刻机需求排到2030年

袁遗说科技

全球光刻产业链同步扩产

ASML

订单已排至2030年,计划超30%扩产

明年将低数值孔径EUV和浸没式DUV产能各提高30%,并探索2028年超出该增幅的方案;部分关键产品定价谈判已完成,将提价

。

佳能

明年半导体光刻设备产量最高接近今年两倍

利用去年建成的宇都宫新厂落实增产,主要面向成熟制程;先进后道光刻设备计划到2029年产能较2026年提高50%

。

蔡司

光学核心订单排至2027年,正加速扩产

为EUV设备供应照明与投影光学系统,High-NA产线已具备量产条件;ASML累计向蔡司提供产能建设贷款19.1亿欧元+预付款11.9亿欧元

。

通快

EUV光源新财年订单和收入均两位数增长

光源系统是EUV光刻机三大核心零部件之一,通快为ASML EUV设备主要光源供应商

。

中国能拿到的和拿不到的

设备类型

中国大陆

制程节点

EUV(极紫外)

禁售

7nm及以下

ArFi 浸没DUV

受限

14~28nm

DUV(成熟制程)

可采购

28nm及以上

本季中国大陆采购额约26.8亿欧元,全为DUV

Q3中国大陆占ASML净销售额23%,环比回升9个百分点,但与峰值时期49%仍有差距;全部为成熟制程DUV设备,EUV一台未售

。

成熟制程满足国内70%以上工业需求

汽车电子、工业控制、电源管理芯片均依赖成熟工艺;新能源与工控扩张持续拉动DUV采购,国内晶圆厂务实采购合规设备稳住产能底盘

。

中国市场占23%, 阿斯麦不同意对华禁售duv

观察者网军工频道

没想到! 国内持续购入光刻机, asml业绩这次稳了

春雨说数码

ASML反对禁售DUV,但决定权不在它

戴厚杰

ASML首席财务官

财报后记者会

"推进限制DUV对华出口完全是一个糟糕的主意,如果法案在美国国会通过,反而只会加速中国自主研发同类竞争性技术的步伐。"

但他补充:乐观认为"常识最终会占上风"

商业动机:23%营收让ASML有强烈反对理由

戴厚杰预计2026全年中国大陆占比约20%,对ASML而言是不可忽视的营收来源

。

决策权归属:美国政府和国会,不是ASML

过去数年EUV出口管制逐步收紧,由美方主导;ASML的反对表态仅为商业立场,不能替代政策走向

。

国产EUV光源样机:从0到1,差几步?

已完成

EUV光源系统样机首次公开展示

上海朗道燧岩在第26届中国国际工业博览会展示样机,国产化率90%,技术路线与国际主流一致,已能用于芯片曝光测试

。

EUV光刻机三大核心零部件

① EUV光源系统(光路激发)

② 光学系统(蔡司供应,精密镜组)

③ 精密运动平台(硅片与掩模的纳米级对准)

——光源只是其中之一,另外两个同样受海外垄断

。

国产突破

EUV光源样机

90%国产化,阶段性工程验证,距量产约3-5年

测试验证中

28nm DUV浸没式光刻机

上海微电子SSA800,仍在集成电路研发中心测试验证

设备缺口如何传导到终端?

①

光刻设备供给不足

2027-2028年供应确认无法满足需求,ASML正研究超30%的额外扩产方案

。

②

晶圆厂扩产节奏受阻

拿不到设备的晶圆厂无法按计划扩产线,芯片产能释放推迟。

③

先进芯片供应趋紧,价格承压

ASML已完成关键产品提价谈判,设备成本上移将向晶圆代工费率传导

。

④

AI算力成本缓慢抬升

GPU/HBM制造成本压力上移,AI推理与训练成本2027年后将面临更大压力,供应缺口最快2028年后才可能缓解

。

全线扩产仍供不应求, 光刻机被抢疯了

袁遗说科技

蔡司high-na euv爆单, 订单排至2027年

袁遗说科技

asml三季报净销售额116.6亿欧元创新高 净利润50亿欧元

信息的世界

国内成都造光刻机:错位突破细分市场

中特微首批"双流造"光刻机11月初发货

订单金额突破1亿元,主供光芯片、显示半导体、LED等领域;产品为微米级接近式光刻机,单价约25-30万美元,与EUV的逾亿欧元相去甚远

。

避开EUV/DUV投影主战场,拿下80%细分市场

精准布局近紫外接近式光刻,海外巨头SUSS、DNK、EVG对该细分定制化投入薄弱;中特微光显示领域市占率约80%,明年产能预计300台

。