导读：ASML再出重拳，1000台光刻机秒变“废铁”，不料我们留有后手

荷兰颁布光刻机新规之后，全球芯片行业受到震荡。据路透社报道，在此次管制升级过程中，DUV设备的出口限制标准由7纳米下调至14纳米，并且管制范围进一步扩大，像计算光刻软件等处于敏感领域的配套技术也被“一刀切”地纳入管制范围。

新规颁布后，阿斯麦（ASML）公司的股价随即下跌了8.2%。荷兰方面虽再三以“经济安全风险”作为说辞，但稍有判断力的人都能够清楚地认识到，这似乎是其配合美所上演的一出双簧戏。

自2019年起，美国为遏制中国获取高端芯片，向荷兰施加压力，要求其拒绝向中国出口用于生产7纳米以下芯片的先进光刻机，企图以此阻碍中国芯片产业的发展。

在多轮出口限制政策收紧之后，荷兰与美国保持一致，将部分深紫外（DUV）光刻机纳入出口许可清单范围。

值得欣慰的是，国内相关厂商具备前瞻性的防范意识。仅在2023年11月，就从荷兰锁定了约42台光刻机，交易金额超过81亿美元。这批具有前瞻性布局的“先手”设备，至今仍保障着中芯国际等企业的正常生产运营。

遗憾的是，局势急转直下。2024年初，荷兰再度收紧出口管制政策，将部分深紫外（DUV）机型纳入管制范围，甚至撤销已获批的出口许可。这一系列举措致使我国高端芯片研发进程受阻，现有设备的维护以及备件供应亦面临中断风险。一旦设备出现故障，整条生产线极有可能陷入停摆状态，价值高昂的设备届时将沦为一堆废铁。

此类举措不过是美国全方位设置障碍的一个缩影。更进一步而言，美国的这种遏制操作早已蔓延至人工智能、通信、生物科技等关键领域。在人工智能领域，美国限制采购中国的技术方案，打压在美华人学者；在通信领域，美国封禁中国5G设备在美国市场的销售，并向其盟友施压，妄图联合围堵中国通信产业。

然而，伴随在关键领域接连取得攻关成果，美方的算计已难以继续奏效。上实现28nm DUV光刻机的量产验证，并攻克了13.5nm极紫外光源这一EUV光刻机的“心脏”技术，刻蚀等高难度设备的本土化率也提升至四成以上。

即便在其他相对薄弱的领域，中国亦在迅速实现赶超。通过算法的优化、开源生态的构建等举措，像DeepSeek等国产模型已超越美国同类开源模型。市场表现也充分印证了国产技术的实力，当前，以华为等为代表的中国企业占据了全球电信设备市场41%的份额。

这些成绩的取得并非一蹴而就。为攻克光刻机这一“卡脖子”难题，我国密集出台相关政策，累计研发投入逾3.6万亿元，旨在实现全产业链条的自主可控。在此积极态势的带动下，ASML前光源技术负责人林楠、日本学者王兴向朝等专业人才相继归国，推动极紫外（EUV）光源等关键技术迈向新的台阶。

我国光刻机领域正蓬勃发展，这一积极态势正悄然改变着全球科技版图。曾几何时，阿斯麦（ASML）的高管们秉持着“他们造不出光刻机”的傲慢观点。然而，如今他们的态度已有所转变，开始表达“期待与中国合作”的意愿。市场数据清晰显示，在2025年前5个月，阿斯麦在中国市场的订单量同比大幅减少了60%。

有专家指出，即便面临美国与荷兰的联合施压，中国并非只能处于被动防御的境地，而是具备一定的反制能力。我们都知道，稀土是光刻机制造的关键要素。自中国收紧稀土相关技术的出口管制后，阿斯麦的光刻机交付已出现数周延迟。该公司也不得不承认，当前的局面使其发展受到了极大的制约。

实践充分证明，通过技术封锁来阻碍他国发展的做法不仅难以达到预期目的，反而会促使被封锁国家加快突破技术瓶颈的速度。正如阿斯麦首席执行官傅恪礼所说：“你试图阻止的人会更加努力取得成功，无论多少障碍都无济于事。”

当前，中国在人工智能、生物技术等前沿领域正加速追赶西方，与西方的差距正在逐步缩小。高端人才的回流为科研事业注入了源源不断的动力，推动整体突围的步伐明显加快。

反观美国，阿斯麦出现产能闲置的情况，工厂调班近乎陷入半停摆状态；OpenAI等科技巨头与中方的技术差距正在迅速缩小；创新药研发对中国的依赖程度也日益加深。

光刻机事件如同一个鲜明的警示，清晰地揭示出在核心科技领域，过度依赖他人最终只会使自己陷入困境。而中国选择的是一条虽充满挑战，但更为安全可靠的自主创新之路。