央视首次曝光！每台4亿美元重180吨，全世界最先进光刻机揭开面纱。2025年5月27日，央视的镜头对准了一个庞然大物，它就是目前全球最先进的光刻机：High-NA EUV极紫外光刻机。 这台需要拆解成250个集装箱、动用7架波音747运输的巨型光刻机，引得全球芯片巨头“两眼放光”，虽然一个个争前恐后的订购，但也只有三家顶尖芯片制造商捷足先登。 央视选在此时报道它，到底有什么深意？这台光刻机又有什么过人之处？ 这台光刻机重达 180 吨，价值高达 4 亿美元，由荷兰半导体巨头 ASML 耗费多年心血打造而成，内部构造极为复杂，有着超过 25 万个零部件，并且这次技术突破太惊人了。 这台光刻机的核心技术在于数值孔径从传统 EUV 的 0.33 提升到了 0.55 ，镜头开口差不多扩大了一倍。有了它，芯片制造行业简直像迎来了一场 “革命”。首先，芯片尺寸能缩小 30% 以上，同样大小的晶圆能产出更多芯片，产能直接提升 40%，这可都是白花花的利润啊。其次，生产步骤能减少 60%，良品率从 85% 一下子跃升到 95%，又省事儿又能造出更多好芯片，哪个芯片制造商能不心动？ 目前，全球仅有五台这样的设备，而且仅交付给了英特尔、台积电和三星这三家顶尖芯片制造商 。说到这儿，大家肯定好奇，央视为啥选在这个时候报道这台光刻机呢？ 如今，芯片在现代科技里的地位太关键了，从手机、电脑到汽车、人工智能，哪哪都离不开它。而光刻机作为芯片制造的核心设备，自然成了各国科技竞争的焦点。美国一直想方设法限制荷兰 ASML 向中国出口先进光刻机，妄图借此打压中国芯片产业的发展。 在这样的国际科技博弈背景下，央视报道这台全球最先进的光刻机，意义非凡。这是向大家展示全球芯片制造领域的顶尖技术，让大家看到差距，明白芯片制造技术的突破有多难； 咱中国现在的光刻机技术，跟这 “大哥大” 比还有段距离。上海微电子目前能造 90 纳米的光刻机，28 纳米的还在测试。虽然咱们 28 纳米的 DUV 光刻机良品率已经达到 75%，但想要实现大规模生产，估计还得 5 到 8 年。 央视这次明面上是科普芯片产业的门道，实际上是敲响了自主研发的警钟，激励咱们必须啃下光刻机技术这块硬骨头，毕竟落后就要挨打！
