光刻机巨头ASML，日子不好过了。 它的技术，2027年就可能到头了。 ASML自己内部的路线图都写得明明白白，现有的EUV技术撑到1.4纳米就是极限。 下一代被寄予厚望的Hyper NA EUV，又因为解决不了反射光污染问题，研发一再延迟，直接导致公司股价跌了10%。 屋漏偏逢连夜雨，四面八方的对手已经杀到家门口了。 美国劳伦斯伯克利国家实验室搞出的新激光器，能把EUV光源效率提8倍，耗电减一半，已经在加州的3纳米芯片上试点，最快2025年就能量产。 更狠的是挪威人。 他们推出的原子光刻技术，分辨率直接干到了0.7纳米，这比ASML领先了整整15年，成本还低三成。 人家在奥斯陆的试点线都建好了，目标就是明年商业化。 就连一直被看不起的替代方案，也开始抢饭碗了。 日本佳能的纳米压印设备已经量产，成本比EUV低一半，台积电和三星都下了订单。 这等于是在ASML的高端市场版图上，硬生生撕开一个口子。 我们自己的EUV-FEL技术也在加速。 国家投入200亿，实验室光源已经成功，一个光源能带十几条产线，成本优势巨大，目标是2026年实现国产化。 所以，现在已经不是一家独大的时代了。 ASML面临的不是一个敌人，而是一个全新的时代。 如果它不能在技术上拿出颠覆性的东西，那今天这个半导体霸主，未来可能真的只会出现在历史书里。
