ASML NXE:3400C是全球主流的EUV极紫外光刻设备，是制造7nm、5nm先进制程芯片的核心装备。设备依靠13.5纳米极紫外光源完成芯片电路曝光，采用双工件台技术，每小时可处理约170片晶圆，拥有超高分辨率与套刻精度。整机结构复杂，集成光学、真空、精密机械等多领域顶尖技术。EUV光线无法透过空气与普通透镜，依靠多组反射镜完成光路传输。该设备制造难度极高，支撑着高端手机、AI处理器等先进芯片的生产，代表当代半导体装备的顶尖水平。乐高科技芯片半导体光刻机10亿一台仍供不应求
ASML NXE:3400C是全球主流的EUV极紫外光刻设备，是制造7nm、5nm先进制程芯片的核心装备。设备依靠13.5纳米极紫外光源完成芯片电路曝光，采用双工件台技术，每小时可处理约170片晶圆，拥有超高分辨率与套刻精度。整机结构复杂，集成光学、真空、精密机械等多领域顶尖技术。EUV光线无法透过空气与普通透镜，依靠多组反射镜完成光路传输。该设备制造难度极高，支撑着高端手机、AI处理器等先进芯片的生产，代表当代半导体装备的顶尖水平。乐高科技芯片半导体光刻机10亿一台仍供不应求
