光刻机领域10家企业

英诺激光（第10）：由英诺激光牵头的大功率薄片超快激光器关键技术与产业化项目启动会在深圳成功召开。茂莱光学（第9）：基于核心技术生产的光刻机曝光物镜用光学器件最大口径可达直径300毫米，突破常规透镜尺寸和精度的指标要求。美埃科技（第8）：主营业务是空气净化产品、大气环境治理产品，可提供FFU超薄型、设备端自带风机过滤器机组及ULPA超高效过滤器等产品。奥普光电（第7）：生产的光学晶体应用范围较广，客户可根据实际需求进行二次开发，产品可以用于光刻机的光学系统中。清溢光电（第6）：是国内成立早、规模大的掩模板生产企业之一，产品主要应用于平板显示、半导体芯片、触控电路板等行业。晶方科技（第5）：主营业务是传感器领域的封装测试业务，控股子公司光学器件产品主要应用于光刻机、半导体设备、工业自动化等应用领域。腾景科技（第4）：主要产品是精密光学元组件、光纤器件及光测试仪，正在进行应用于光刻机光学系统的核心部件项目研发。路维光电（第3）：主营业务是掩模版的研发、生产和销售，主要产品是石英掩模版、苏打掩模版。芯碁微装（第2）：主营业务是以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备，主要产品是PCB直接成像设备、半导体直写设备。同飞股份（第1）：主营业务是工业温控设备、液体恒温设备，主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD、CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。