国产芯片光刻胶获重大突破 国产芯片光刻胶获重大突破，这消息太让人振奋了！光刻技术对集成电路芯片制程工艺超关键，光刻胶就像刻画电路的颜料，它在显影液中的运动影响芯片良率。
以前，光刻胶在显影液里的微观行为是个“黑匣子”，工业界只能反复试错，制约着7纳米及以下先进制程良率提升。这次北大彭海琳教授团队用冷冻电子断层扫描技术，首次原位解析光刻胶分子微观三维结构等，还开发出减少光刻缺陷的产业化方案，相关论文发在《自然·通讯》。这一突破为国产芯片发展注入强大动力，期待未来国产芯片能更进一步！
国产芯片光刻胶获重大突破 国产芯片光刻胶获重大突破，这消息太让人振奋了！光刻技术对集成电路芯片制程工艺超关键，光刻胶就像刻画电路的颜料，它在显影液中的运动影响芯片良率。
以前，光刻胶在显影液里的微观行为是个“黑匣子”，工业界只能反复试错，制约着7纳米及以下先进制程良率提升。这次北大彭海琳教授团队用冷冻电子断层扫描技术，首次原位解析光刻胶分子微观三维结构等，还开发出减少光刻缺陷的产业化方案，相关论文发在《自然·通讯》。这一突破为国产芯片发展注入强大动力，期待未来国产芯片能更进一步！
