中国光刻不追EUV，另辟新路太绝了
国产光刻突围，居然不跟EUV、DUV的风？
璞璘科技刚交付的纳米压印光刻机，走出了条全新赛道——不用传统曝光，靠全域气压整面压印成型。
性能硬得很：压力误差0.5%，残余层偏差仅2纳米，精度对标国际高端。更狠的是成本，8英寸晶圆量产实测，成本是传统DUV的十分之一！
一次压印成型，省了超多工序，良率还高，马上要用于自动驾驶激光雷达芯片量产。
设备、材料、工艺全自主，这才是真·破局——不用抄别人的路，自己创新照样超车！
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中国光刻新突破 纳米压印技术 芯片自主创新
