EUV光刻机冲上热搜，很多人以为马上就要量产了？先别急🔍
据公开报道，余承东在国际媒体交流里说，EUV设备确实是制造先进芯片的关键，国内正在研发；但现阶段，国内主要还是依靠DUV光刻。
光刻机可以理解成芯片界的“投影印刷机”：把电路图缩小，投影到硅片上。DUV像普通水笔，EUV像更细的针管笔，笔尖越细，同样面积里画的线路越多。
除了硬磕设备，华为还提到另一条路：用逻辑折叠、软硬协同等系统工程方法，在制程受限时提升整体性能。据华为官方介绍，预计到2031年，晶体管密度达到1.4nm制程同等水平。
一句话总结：一边补设备短板，一边靠系统优化补性能，两条腿走路更稳💪
当然，光刻机涉及光源、镜头、材料等整条产业链，从研发到量产的周期和进度，仍待官方确认。你会更看好哪条路线？评论区聊聊👇
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