阿斯麦CEO：中国光刻机技术落后10-15年，如果没有我们的EUV极紫外刻帮助，中国几乎不能造出来3-5nm工艺，同时表示断供EUV，就是为了防止中国获得先进技术。 克里斯托夫·富凯接手阿斯麦CEO后，就直言不讳谈中国半导体差距。2024年12月，他在荷兰媒体NRC采访中说，禁运EUV让中国在先进技术上落后西方10到15年，这禁令确实起作用了。EUV是生产3纳米到5纳米芯片的关键，没有它，靠DUV多次曝光再怎么折腾，精度和效率都跟不上。 阿斯麦花20多年才把EUV搞到量产，光源、镜片、软件同步，每一步都试错无数次，生态链不是短期能复制的。他认为禁令针对的就是维持技术优势，美国从2020年起推动，荷兰配合执行，禁止卖EUV给中国。 富凯在其他场合如彭博峰会也重复，美国会继续压盟友加强限制。中国企业用DUV多重图案化在7纳米级别取得进展，但成本高、良率难控，整体上先进节点推进慢。富凯强调，这不是市场份额竞争，而是卡住通往AI算力、军工升级的通道。阿斯麦作为设备供应商，夹在中间，销售结构受影响，但技术主导地位没动摇。 禁令落地后，阿斯麦中国市场份额明显下滑。2025年中国营收占比33%，2026年预计跌到20%以下。公司靠AI需求拉动EUV订单，主要来自台积电、三星等，整体营收还能撑住，但中国订单锐减带来压力。富凯多次表示，过度限制可能反过来加速中国自主发展。中国把精力放在28纳米及以上成熟制程，这些占全球芯片需求70%以上，用在汽车、物联网、消费电子上。 上海微电子等厂商交付国产28nm浸没式DUV设备，通过多重曝光实现更细节点，良率逐步优化。部分国产芯片已实现自给，搭载自研系统，通过三维堆叠提升能效。阿斯麦继续推High-NA EUV新一代设备，保持领先。中国团队专注成熟节点规模化，资金大量投入产业链。富凯领导下，阿斯麦平衡增长与地缘风险，强调供应链稳定，但不确定性还在增加。这场博弈，技术围墙没那么牢靠，反而成了推动突破的动力。禁令有效期内，中国路径越走越宽，西方优势还能维持多久？不好说。